装置詳細
Nb-Alジョセフソン接合作製装置[標準型]
![Nb-Alジョセフソン接合作製装置[標準型]IMG](/ibec/private/file/open-image/2/name/121121160547-2224.jpg)
名称 | Nb-Alジョセフソン接合作製装置[標準型] |
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メーカー | |
課金額 | 単価表(https://unit.aist.go.jp/tia-co/orp/index.html)をご参照ください。 ※課金係数1でご利用の場合 |
導入年月日 | |
仕様 | 本装置は、ロードロック室、酸化室、ALスパッタ室、Nbスパッタ室の4チャンバーで構成され、真空状態でウエハを搬送させ多層膜を形成するこが可能です。酸化室ではRF逆スパッタにより必要に応じてウエハ表面のクリーニングも出来ます。チャンバー間の移動は自動操作可能です。 ・スパッタ方式:DCスパッタ ・スパッタレート:Nb=78nm/min AL=15nm/min ・ウエハ冷却(酸化室):22℃ ・酸化ガス:Ar・O2 ・到達真空度:5×10-8Torr ・最大基板サイズ:Φ3inchウェハ ・基板保持機構:水冷 ・ターゲット-基板間距離:50~200mm ・膜厚分布:±5% ・使用ガス:Ar, Ar/O2 ・成膜時間制御用タイマー付き。 ・成膜可能材料:Nb,Al |
備考 | ・設置場所:2-12棟1131クリーンルーム内。 ・使用可能サンプル:ベアまたは表面に非磁性材料の成膜された洗浄済みウエハ、レジスト付着物は不可。 ・実際の利用に当たっては装置管理者の指示に従うこと。 |