装置詳細

表面プローブ顕微鏡群2(RSPM)

表面プローブ顕微鏡群2(RSPM)IMG
名称 表面プローブ顕微鏡群2(RSPM)
メーカー SII、日立ハイテク他
課金額 21,500円/時間(成果公開/技術代行の場合)
※課金係数1でご利用の場合
導入年月日  
仕様 SIIナノテクノロジ S-ImageおよびE-SWEEP
●設置室名: 2-1D棟124室
●測定機能:AM-AFM, コンタクトモード, STM, KFM, Conductive-AFM
●制御装置:1台のNanonaviをS-ImageおよびE-SWEEPで切り替えて利用
●測定環境:大気中、恒湿度雰囲気(20~70 %)、液中、真空中(10 E-5[Torr])
●温度範囲(E-SWEEP):-100 ℃~300 ℃(ヒータのみ、制御なし)
●試料サイズ:最大15mm角程度

前処理装置等
●標準試料:探針評価、スケール、段差等
●研磨機、プラズマクリーナ、白色干渉計、反射分光膜厚計、化学ドラフト
原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修)
原子間力顕微鏡(AFM)
http://www.tsc-web.jp/map/pdf/AFM.pdf

※原則として「技術代行」または「技術補助」でのご利用となります。「機器利用」については装置担当者とご相談下さい。
備考 導入年月日:2005年~2010年
(1)前処理設備を利用する場合は、事前に相談のこと。
(2)原則、本人が試料・消耗品を持参して測定し、持ち帰ること。
(3)消耗品は標準カンチレバー(OMCL-AC160、AC200、AC240のいずれか)を半日あたり2本まで利用可能。それ以上は自己負担(持参)とする。午前は3時間、午後は4時間とし、午後と翌朝の連続使用を予約した場合は、夜間に(同一計測条件での)連続計測が可能。
(4)必ず含有物質名を記録し、有害物質を含む材料は持ち込まないこと。

この装置のご利用に関するお問い合わせは
ancf-contact-ml(@)aist.go.jp
までお願い致します。

PAGE TOP