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利用可能な加工、計測、分析、及び、評価装置のリスト

施設:   装置種別:  


ナノプロセシング施設(NPF)

装置名
【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)
【NPF003】イオンコーター (SEM, FIB付帯装置)
【NPF004】電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM]
【NPF005】低真空走査電子顕微鏡
【NPF006】マスクレス露光装置
【NPF008】スピンコーター (リソグラフィ付帯装置)
【NPF009】コンタクトマスクアライナー[MJB4]
【NPF010】マスクアライメント露光装置
【NPF011】i線露光装置
【NPF012】ドラフトチャンバー(右)
【NPF013】ドラフトチャンバー(左)
【NPF014】有機ドラフトチャンバー
【NPF015】酸アルカリドラフトチャンバー
【NPF016】スターラーウォーターバス[SWB-10L-1]
【NPF017】スマートウォーターバス[TB-1N]
【NPF018】反応性イオンエッチング装置 (RIE)
【NPF019】多目的エッチング装置(ICP-RIE)
【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)
【NPF022】UVオゾンクリーナー
【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置
【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置
【NPF025】スパッタ装置(芝浦)
【NPF026】RF・DCスパッタ装置(ULVAC)
【NPF027】ECRスパッタリング装置
【NPF028】多元同時スパッタ装置
【NPF029】メッキ装置
【NPF030】プラズマCVD装置(TEOS_SiO2)
【NPF031】原子層堆積装置[FlexAL]
【NPF032】クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
【NPF033】アルゴンミリング装置
【NPF034】集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
【NPF035】イオンコーター(FIB付帯)
【NPF036】FIB-SEM
【NPF038】二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
【NPF039】オゾンクリーナー(SIMS付帯)
【NPF040】多目的RTA
【NPF041】ウェハー酸化炉
【NPF042】クリーンオーブン(右)
【NPF043】クリーンオーブン(左)
【NPF044】マッフル炉
【NPF045】触針式段差計 (成膜プロセス付帯装置)
【NPF046】走査プローブ顕微鏡SPM1[NanoscopeⅣ_Dimension3100]
【NPF047】走査プローブ顕微鏡SPM2[SPM-9600_9700]
【NPF048】ナノサーチ顕微鏡SPM3[SFT-3500]
【NPF049】ナノプローバ[N-6000SS]
【NPF050】四探針プローブ抵抗測定装置
【NPF051】デバイスパラメータ評価装置
【NPF052】デバイス容量評価装置
【NPF053】ワイヤーボンダー
【NPF054】ダイシングソー
【NPF055】スクライバー (リソグラフィ付帯装置)
【NPF056】研磨機
【NPF057】ラッピングマシン(CMP)
【NPF058】ウェハー圧着機
【NPF059】レーザー顕微鏡 [VK-8510]
【NPF060】短波長レーザー顕微鏡[VK-9700]
【NPF061】短波長レーザー顕微鏡[OLS-4100]
【NPF062】全焦点顕微鏡
【NPF063】分光エリプソメータ
【NPF064】解析用PC(分光エリプソメータ用)
【NPF065】顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
【NPF066】顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
【NPF067】解析用PC(CADおよびSPM, FT-IR, RAMAN用)
【NPF068】磁気特性測定システム(MPMS)
【NPF070】エックス線回折装置(XRD)
【NPF071】薄膜エックス線回折装置
【NPF072】微小部蛍光エックス線分析装置
【NPF073】解析用PC(CADおよびXRD解析用)
【NPF074】エックス線光電子分光分析装置(XPS)
【NPF075】解析用PC(XPS用)
【NPF076】解析用PC1(一般解析用)
【NPF077】解析用PC2(一般解析用)
【NPF078】解析用PC3(一般解析用)
【NPF079】解析用PC4(一般解析用)
【NPF080】ヘリウムイオン顕微鏡
【NPF081】プラズマCVD装置(SiN)
【NPF082】ICP-RIE(化合物半導体用)
【NPF083】多目的熱処理装置
【NPF084】デジタルマイクロスコープ
【NPF085】物理特性測定装置(PPMS)
【NPF086】マニュアルウェハープローバー(2F)
【NPF087】ワイヤーボンダー(2F)
【NPF088】電界放出形走査電子顕微鏡[S4500_FE-SEM] (2F)
【NPF089】RTA拡散炉
【NPF090】レーザー加工装置
【NPF091】自動塗布現像装置
【NPF092】高圧ジェットリフトオフ装置
【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)
【NPF094】解析用PC(CAD及び近接効果補正用)


ご利用料の割引制度についてのお知らせ

2017年度のご利用につきましては、ユーザーのご所属により、課金額に下記の係数がかかります。その他、支援形態や成果公開の可否によって課金額が変わります。詳しくはNPF事務局にお問い合わせください。

  • 中小企業(中小企業支援法第2条) 0.5
  • 大学及び公的研究機関 0.7
  • 上記に該当しない場合は 1

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