装置詳細

【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置

【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置IMG
名称 【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置
メーカー エイコー・エンジニアリング
課金額 2018年度単価表
導入年月日  
仕様 高真空中で金属や化合物などの成膜材料へ電子ビームを照射し、発生した蒸発物を基板上に付着堆積させることにより成膜します。成膜シ-クェンスを組むことにより、自動的8種までの材料の多層膜を作製することができます。高沸点材料や熱伝導率の高い材料では、ソースからの輻射熱が多くなり、条件によっては100 ℃を超えるため、非耐熱性基板では注意を要します。
●蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型、6 kW電子銃
●蒸発源:8連装
●クルーシブル容量:10 ml
●基板ホルダ:最大基板サイズ100 mm×100 mm×20 mm、傾斜ホルダ、冷却機構付(最低温度130 K)
●蒸発源―基板間:300 mm
●試料導入:ロードロック自動搬送
●真空排気システム:到達圧力3×10^-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気
●成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御
●膜厚分布:10 %以内@Φ75mm

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