産業技術総合研究所ナノプロセシング施設

装置詳細

名称	【NPF071】薄膜エックス線回折装置
メーカー	株式会社リガク
課金額	2019年度単価表
導入年月日
仕様	ゴニオメータ: 2θ(-3～160°)、ω(-10～190°)、2θχ(-3～160°) 各軸独立駆動試料ステージ:X、Y、Rx、Ry、φ、Zの6軸最大試料サイズ:4インチウエハ入射X線光学系:放物面型人工多層膜ミラー、4結晶モノクロメーター(Ge(220)/Ge(440)チャンネルカット1対)およびGe(111)非対称チャンネルカットモノクロメーター測定モード:2θ、ω、2θχ、φ各軸単独、2θ/ω、2θχ/φ連動測定、マッピング測定、逆格子マップ測定平板結晶・薄膜の結晶性や膜厚・表面粗さ等を総合評価するため多軸独立駆動のゴニオメーターを搭載した専用測定装置です。入射側は多層膜により平行化されたX線を、4結晶モノクロメーターにより更に単色・平行化する光学系を有しておりエピタキシャル成長した単結晶薄膜や超格子膜或いは多結晶薄膜試料の結晶性(格子定数、配向、組成、歪)、膜厚、超格子の周期或いは逆格子マップ等の評価測定を行うことができます。また、回転対陰極X線発生装置を採用しておりX線輝度・強度が高く迅速な測定を行えます。