装置詳細
【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス)
| 名称 | 【NPF093】高速電子ビーム描画装置(エリオニクス) |
|---|---|
| メーカー | |
| 課金額 | 2018年度単価表 |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | 本装置は細く絞った電子ビームをレジストを塗布した基板に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。加速電圧が130kVであるため非常に微細なパターン(5 nm)を描画することができます。クロック周波数が100 MHzであるため、高速描画が可能です。描画エリアは8インチサイズですが、12インチウエハーをセットすることが可能です。 〇型番:ELS-F130AN 〇電 子 銃 ZrO/W熱電界放射型 〇加 速 電 圧 130kV, 100kV, 50kV, 25kV 〇最小ビーム径 1.7nm (@ 130kV) 〇最小描画線幅 5nm (@ 130kV) 〇最大スキャンクロック 100MHz 〇ビーム電流強度 5pA～100nA 〇フィールドサイズ □100μm、□250μm、□500μm □1000μm (100kV以下) □1500μm(50kV以下) □3000μm (25kV以下) 〇ビームポジション 1,000,000×1,000,000 (20bit DAC) 〇位置決め分解能 0.1nm 〇つなぎ精度 ±10nm 〇重ねあわせ精度 ±15nm 〇描画可能エリア 210mm×210mm 〇最大試料サイズ 12インチΦウェハー又は9インチ□マスク |
