装置詳細

【NPF099】原子層堆積装置[AD-100LP]

【NPF099】原子層堆積装置[AD-100LP]IMG
名称 【NPF099】原子層堆積装置[AD-100LP]
メーカー サムコ株式会社
課金額 2020年度単価表
導入年月日 2019/12/23(月)
仕様 放電形式に誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式を採用した原子層堆積装置です。本装置は、リモートプラズマもしくはダイレクトプラズマの選択が可能となっており状況に合わせて選択できます。プリカーサは、TMA,BDEAS,H2Oを用意しており、AlもしくはSiの酸化物もしくは窒化物の成膜が可能です。

●型式: AD100-LP (サムコ株式会社)
●ステージ温度:50 ～ 500℃
●放電方式: 誘導結合式プラズマ(ICP)
●試料サイズ: 4インチウェハまで対応(2インチは3枚まで可能)
●試料導入方式: ロードロック式
●ICP高周波電源: 最大300W、13.56MHz
●キャリアガス:N2
●使用ガス: O2、N2、NH3、H2、Ar

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