装置詳細

【NPF041】ウェハー酸化炉

【NPF041】ウェハー酸化炉IMG
名称 【NPF041】ウェハー酸化炉
メーカー  
課金額 2019年度単価表
導入年月日  
仕様 この装置は、シリコンウエハー表面の酸化膜形成などの熱処理に用います。横型の熱処理炉で、試料室内部はドライまたはウェットな酸素ガス雰囲気もしくは、不活性ガス(窒素)雰囲気に制御可能であり、熱処理温度は1200 ℃まで加熱することができます。また、縦置きホルダーを利用すれば4インチウェハを一度に25枚まで熱処理することもできます。尚、炉心管の汚染防止のため金属の着いた試料やSi以外の基板は使用禁止とします。
●型式:MAT-200KS
●ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン
●常用温度、到達時間:1100 ℃、2時間
●温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm)
●炉心管:石英、Φ136 mm×長さ1090 mm
●試料寸法:最大Φ4インチ×25枚(長さ150 mm)
●試料室:ドライ、ウェットな雰囲気制御可能
●使用ガス:O2, N2

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