装置詳細
【NPF041】ウェハー酸化炉

名称 | 【NPF041】ウェハー酸化炉 |
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メーカー | |
課金額 | 2018年度単価表 |
導入年月日 | |
仕様 | この装置は、シリコンウエハー表面の酸化膜形成などの熱処理に用います。横型の熱処理炉で、試料室内部はドライまたはウェットな酸素ガス雰囲気もしくは、不活性ガス(窒素)雰囲気に制御可能であり、熱処理温度は1200 ℃まで加熱することができます。また、縦置きホルダーを利用すれば4インチウェハを一度に25枚まで熱処理することもできます。尚、炉心管の汚染防止のため金属の着いた試料やSi以外の基板は使用禁止とします。 ●型式:MAT-200KS ●ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン ●常用温度、到達時間:1100 ℃、2時間 ●温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm) ●炉心管:石英、Φ136 mm×長さ1090 mm ●試料寸法:最大Φ4インチ×25枚(長さ150 mm) ●試料室:ドライ、ウェットな雰囲気制御可能 ●使用ガス:O2, N2 |