装置詳細
【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)
| 名称 | 【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置) |
|---|---|
| メーカー | ヤマト科学 |
| 課金額 | 2018年度単価表 |
| 導入年月日 | |
| 仕様 | この装置は、石英チャンバー内で酸素プラズマを発生させることにより、有機物のフォトレジストをCO2とH2Oに分解・酸化させて除去するものです。 ●型式:PR500 ●高周波電源:最大500W ●反応槽:石英チャンバーΦ215 mm×305 mm(高さ) ●放電時間設定:0.1秒～999時間 ●使用ガス:O2、パージ用N2ガス |
