装置詳細

【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)

【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)IMG
名称 【NPF021】プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)
メーカー ヤマト科学
課金額 2018年度単価表
導入年月日  
仕様 この装置は、石英チャンバー内で酸素プラズマを発生させることにより、有機物のフォトレジストをCO2とH2Oに分解・酸化させて除去するものです。
●型式:PR500
●高周波電源:最大500W
●反応槽:石英チャンバーΦ215 mm×305 mm(高さ)
●放電時間設定:0.1秒~999時間
●使用ガス:O2、パージ用N2ガス

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