装置詳細

【NPF040】多目的高速加熱ランプ炉(RTA)

【NPF040】多目的高速加熱ランプ炉(RTA)IMG
名称 【NPF040】多目的高速加熱ランプ炉(RTA)
メーカー アルバック理工株式会社
課金額 2018年度単価表
導入年月日  
仕様 赤外線ランプとゴールドミラー集光機構を備えた高速昇温可能な加熱装置です。
試料は、石英管内の3インチSiCコートカーボンサセプタに乗せ、真空又は、不活性ガス(Ar, N2)雰囲気による加熱が行えます。プログラムコントローラによる昇降温レート、加熱時間のコントロールが可能です。
●温度範囲:100 ~ 1000℃(801℃以上時間制限有り)
●雰囲気:真空、不活性ガスフロー(Ar, N2)
●試料ステージ:3インチウェーハ 1枚平置き用カーボンサセプタ(SiCコート)
●加熱制御方式:マイクロコンピュータデジタルメモリー方式(最大99ステップ)
●最大加熱速度:20℃/sec (実力値、若干のオーバーシュートを伴います)
●均熱ゾーン:3インチ (Ф75 mm)
●均熱精度:±10℃ @ 800℃
●温度制御:カーボンサセプタ埋め込みK熱電対によるフィードバックPID制御
●到達真空度:10^-3 Pa台(TMP使用時・室温)

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