装置詳細
【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)

名称 | 【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC) |
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メーカー | クレステック |
課金額 | 2021年度単価表 |
導入年月日 | |
仕様 | 細く絞った電子線を基板表面に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。その分解能は電子線のビーム径に依存します。電子線をスポット照射させる加工方法である為、加工時間は、微細かつ加工領域が大きくなるほど長くなります。試料は最大6インチ基板まで扱えます。電子線走査範囲は一辺が100 μm~1 mmの正方形で、描画方式により若干異なりますが、画素数を4000~60000ドットの範囲内から選択できます。 ●型式:CABL-9410TFNA ●電子銃:熱電界放射型ZrO,Wエミッタ ●最小スポット直径:ガウス分布2 nmΦ(加速電圧50 kV) ●描画可能な最小線幅:10 nm(レジスト膜厚100 nmのとき) ●走査方式:ベクター走査、ラスター走査 ●走査領域:最大1 mm□ ●つなぎ合わせ描画領域:最大150 mm□ ●つなぎ合わせ精度:50 nm以下 ●重ね合わせ精度:50 nm以下 ●試料寸法:最大6インチΦ×4.6 mm(高さ) |