装置詳細

【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)

【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)IMG
名称 【NPF001】電子ビーム描画装置 (CRESTEC)
メーカー クレステック
課金額 2018年度単価表
導入年月日  
仕様 細く絞った電子線を基板表面に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。その分解能は電子線のビーム径に依存します。電子線をスポット照射させる加工方法である為、加工時間は、微細かつ加工領域が大きくなるほど長くなります。試料は最大6インチ基板まで扱えます。電子線走査範囲は一辺が100 μm～1 mmの正方形で、描画方式により若干異なりますが、画素数を4000～60000ドットの範囲内から選択できます。
●型式:CABL-9410TFNA
●電子銃:熱電界放射型ZrO,Wエミッタ
●最小スポット直径:ガウス分布2 nmΦ(加速電圧50 kV)
●描画可能な最小線幅:10 nm(レジスト膜厚100 nmのとき)
●走査方式:ベクター走査、ラスター走査
●走査領域:最大1 mm□
●つなぎ合わせ描画領域:最大150 mm□
●つなぎ合わせ精度:50 nm以下
●重ね合わせ精度:50 nm以下
●試料寸法:最大6インチΦ×4.6 mm(高さ)

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