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『電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ』のご案内【2018/10/26開催】

2018/09/21(金)

筑波大学、物質・材料研究機構、東京工業大学、産業技術総合研究所は、文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします。電子ビーム露光の基礎から最新のレジストプロセスまで、露光事例とともに微細パターン形成技術について紹介いたします。また、各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました。普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。
また、このセミナーへの参加をより充実した機会にするために、実習コースを併設しています。産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。

◇講演
【日時】平成30年10月26日(金)12:55~16:20
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎 120号教室 (丸ノ内線茗荷谷駅)
・ http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html
【参加費】無料
【定員】90 名(先着順、参加登録をお願いします)
【セミナー案内/申し込み】
・ https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h30-2/index.html

【講演プログラム】
12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田哲也
13:00-13:30 『デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光』
東京工業大学 宮本恭幸
13:30-13:50 『電子ビーム露光における近接効果補正』
産業技術総合研究所 有本 宏
13:50-14:20 『電子ビーム描画における露光データの最適化処理』
GenISys株式会社 清水 諭
14:20-14:40 休憩(オーサーズインタビュー)
14:40-15:10 『電子ビーム描画装置の応用的な使い方について』
株式会社エリオニクス 新関 嵩
15:10-15:40 『電子ビーム露光によるレジスト材料評価事例のご紹介』
富士フイルム株式会社エレクトロニクスマテリアルズ研究所 土橋 徹
15:40-16:00 『現像プロセスにおける温度管理の有意性』
物質・材料研究機構 津谷大樹
16:00~17:30 意見交換会(無料)

◇実習コース
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム ELS-7000改(エリオニクス)
12月5日(水) EB描画(基礎) 定員:3名(無料)
12月19日(水)EB描画(応用) 定員:3名(無料)
下記URLに記載されている申し込みに従って直接お申し込みください。
http://www.nims.go.jp/rnfs/events/H30/school.html
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 JEOL JBX-6300SJ(日本電子)
11月1日(木)、11月2日(金) 定員:1日2名(無料)
初心者を対象に3層レジスト露光のプロセス習得
産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設(NPF) ELS-F130AN(エリオニクス)
11月6日(火) 定員:3名(無料)
初心者を対象にパターン設計、描画、現像、パターン観察まで行う。

主催:産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
主催:物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
主催:筑波大学微細加工プラットフォーム 主催:東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)
協賛:GenISys株式会社
協賛:株式会社エリオニクス

電子メール:tia-npf-school2@aist.go.jp

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