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電子ビームリソグラフィセミナーV (11/27開催)のお知らせ

2019/09/27(金)

筑波大学、物質・材料研究機構、東京工業大学、産業技術総合研究所は、文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィセミナーV」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします。電子ビームリソグラフィー技術に関わる最新レジストプロセスからデータ補正技術、微細パターン形成の露光事例について紹介いたします。また、各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました。普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。
【日時】令和元年11月27日(水)12:55~16:35
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎 119 号教室 (丸ノ内線茗荷谷駅)
http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html
【参加費】無料
【定員】90 名(先着順、参加登録をお願いします)
【セミナー案内/申し込み】
https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2019-2/

【講演プログラム】
12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田哲也

13:00-13:40 『新規レジスト材料開発のための設計戦略』
大阪大学産業科学研究所 中島綾子

13:40-14:20 『光集積回路作製を目的とした厚膜レジストへの電子ビーム露光
近接効果補正技術』
東京工業大学 西山伸彦

14:20-14:50 『レジスト現像シミュレーションから見る電子ビーム近接効果とその補正』
GenISys株式会社 清水 諭
14:50-15:05 休憩(オーサーズインタビュー)

15:05-15:35 『大面積偏向型超高速電子ビーム描画装置について』
株式会社エリオニクス 新関 嵩

15:35-15:55 『電子ビーム露光装置を用いたGa2O3 FinFETとAlN光導波路の作製』
筑波大学 奥村 宏典

15:55-16:15 『電子ビーム描画条件最適化のための実験的検証』
物質・材料開発機構 NIMS微細加工プラットフォーム 大里 啓孝

16:15-16:35 『ポジ・ネガ反転パターン形成のためのDDRプロセス』
産総研 ナノプロセシング施設 郭 哲維

17:00~18:30意見交換会(無料) TAMAYA (筑波大学東京キャンパス正門前)

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