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新しいECRスパッタ成膜・ミリング装置、および原子層堆積装置の公開

2020/11/27(金)

2020年12月から新たなECRスパッタ成膜・ミリング装置、および原子層堆積装置の公開を開始します。

新装置名: 【NPF098】ECRスパッタ成膜・ミリング装置
ECRイオンソースで発生させたArイオンビームで、スパッタ成膜とイオンエッチングを行うことを目的とした装置です。同一試料に対して成膜とエッチングを途中で真空を破らずに連続して行えることを特徴としています。

新装置名: 【NPF099】原子層堆積装置 [AD-100LP]
放電形式に誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式を採用した原子層堆積装置です。本装置は、リモートプラズマもしくはダイレクトプラズマの選択が可能となっており状況に合わせて選択できます。プリカーサは、TMA,BDEAS,H2Oを用意しており、AlもしくはSiの酸化物もしくは窒化物の成膜が可能です。

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