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平成28年度実践セミナー 『薄膜実践セミナー�U』

last updated 2016.9.30
 
 
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概要

産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)は、「薄膜実践セミナー�U」を、2016年11月15日(火)に産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。前半は、スパッタ堆積法による機能性薄膜、後半は、2次元半導体材料等について取り上げます。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講師の方々に個別に質問をすることが可能です。

また、実習にはNPFの装置を使用したSrTiO3誘電体薄膜形成・熱処理と、結晶性・電気特性評価などを盛り込み、機能性薄膜開発の基礎的なスキルを獲得していただくことを目指しております。

産学官いずれのご所属にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしております。

主催:産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)

講演
【日時】平成28年11月15日(火)12:55-17:00
【場所】産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 2−12棟 第6会議室
【参加費】無料
【定員】90名(先着順、参加登録をお願い致します)
【申込み】お申し込みはこちら
実習
【日時】平成28年12月〜平成29年2月の間の3日間
【場所】産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 2−12棟 ナノプロセシング施設
【参加費】50,000円/人(人頭経費を含む)
【定員】3名(同時に実施します)
【申込み】お申し込みはこちら