ナノプラ

平成28年度実践セミナー 『電子ビーム露光実践セミナー』

 
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開催日・場所・参加費・定員

【日時】2017年2月21日(火)12:55−17:00

【場所】産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 2−12棟 第6会議室

【参加費】無料

【定員】90名(先着順、参加登録をお願い致します)

講演

12:55 開会

12:55−13:00 はじめに

産業技術総合研究所 共用施設ステーション 多田 哲也

13:00−14:00 『電子線露光の基礎』

東京工業大学 宮本 恭幸

14:00−14:20 『グラフェン評価のための電極形成プロセス』

産業技術総合研究所 佐藤 平道


14:20−14:40 休憩(オーサーズインタビュー)


14:40−15:10 『電子ビーム描画装置の高度な使い方』

日本電子株式会社 會田 征徳

15:10−15:40 『電子線描画装置の課題と開発計画について
                                           〜高精度と高スループット達成の為の新技術〜』

株式会社エリオニクス 新関 嵩

15:40−16:10 『F7000Sの最新露光事例紹介』

株式会社アドバンテスト 瀧澤 昌弘

16:10−16:40 『クレステックの電子ビーム描画装置』

株式会社クレステック 大井 英之


16:40−17:00 オーサーズインタビュー


17:00 閉会