ナノプラ

平成29年度実践セミナー 『エッチング実践セミナー』

last updated 2017.7.20
開催日・場所・参加費・定員

【日時】2017年9月13日(水)12:55 - 17:10

【場所】産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 2−12棟 第6会議室

【参加費】無料

【定員】90名(先着順、参加登録をお願い致します)

講演

12:55−13:00 はじめに

産総研 共用施設ステーション 多田哲也

13:00-13:40 「エッチングケミストリー ~磁性体材料から酸化物半導体まで~」

大阪大学アトミックデザイン研究センター 唐橋 一浩

13:40-14:20 「新材料・新デバイスのエッチング」

技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 (PETRA) 木下 啓藏

14:20-15:00 「GaNデバイス材料のエッチング(ストイキオメトリーの精密制御)」

名古屋大学プラズマナノ工学研究センター 石川健治

15:00-15:20 休憩(オーサーズ・インタビュー)

15:20-15:50 「次世代パワーデバイス向け加工技術の最新動向」

SPPテクノロジーズ株式会社 金尾寛人

15:50-16:20 「最新ドライエッチング技術の紹介 - RIE-400iPS -」

サムコ株式会社 丸野敦紀

16:20-16-50 「磁気中性線放電(NLD)プラズマを用いたエッチングアプリケーション」

株式会社アルバック 村山貴英

16:50-17:10 オーサーズ・インタビュー