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平成29年度実践セミナー 『薄膜実践セミナーⅢ』

last updated 2017.10.16
 
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概要

産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF) は、「薄膜実践セミナーⅢ」を、2017年11月30日(木)産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。
前半は、スパッタ堆積法による機能性薄膜、後半は原子層堆積法(ALD)の成膜技術について講演していただく予定です。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講師の方々に個別に質問をすることが可能です。

また、有料実習コースでは、NPFの装置を使用してSrTiO3誘電体薄膜形成とその結晶性・電気特性評価などを盛り込んだ機能性酸化物開発の基礎的なスキルを獲得していただけるコースを準備いたしました。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。
(※セミナー講演のみ、実習コースのみの参加申し込みも可能です。)

主催:産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)

講演
【日時】2017年11月30日(木)12:55 - 17:20
【場所】産業技術総合研究所つくば中央 本部・情報棟1Fネットワーク会議室
【参加費】無料
【定員】100名(先着順、参加登録をお願い致します)
【セミナー案内/申込】お申し込みはこちら
講演プログラム
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実習プログラム
実習コースについては【実習】