ナノプラ

平成29年度実践セミナー 『電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅢ』

開催日・場所・参加費・定員
【日時】2018年2月15日(木)12:30 - 17:00
【場所】東京ファッションタウン9F(研修室907)
【参加費】無料
【定員】90名(先着順、参加登録をお願い致します)
講演

12:30−12:35 はじめに

産業技術総合研究所 多田哲也

12:35-13:00 「EB描画データ処理システム BEAMER、TRACER、LABと、SEM像解析ソフト ProSEMの紹介」

GenISys株式会社 竹村 等

13:00-12:25 「最新の電子ビーム描画のアプリケーションのご紹介 -スループットと高精細なパターンを両立するには-」

株式会社エリオニクス 新関 嵩

13:25-13:50 「電子ビーム描画装置の位置精度」

日本電子株式会社 會田征徳

13:50-14:15 「クレステックのEB描画装置」

株式会社クレステック 柴田政宏

14:15-14:40 「アドバンテストの露光装置紹介」

株式会社アドバンテスト 工藤靖明

14:40-15:00 休憩(オーサーズインタビュー)

15:00-15:40 「高加速電圧電子線描画装置によるフォトニック結晶光集積回路の作製」

日本電信電話株式会社 倉持 栄一

15:40-16:15 「プラズモニックデバイス作製のための電子線描画装置活用」

北海道大学 松尾保孝

16:15-16:55 「低損失シリコンフォトニクス素子実現のための微細加工技術」

東京工業大学 西山伸彦

17:00- 意見交換会(無料)  (東京ファッションタウン2F  PRONTOにて)