産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF) は、「NPFセミナー ~省エネルギー社会に貢献するGaN材料の将来と、そのキープロセス技術~」を2019年3月14日(木)産業技術総合研究所臨海副都心センター別館11F会議室1(お台場)にて開催いたします。
前半は、パワーデバイス応用と将来動向について、後半はデバイス作製のキープロセスとしての成膜技術、エッチング技術について紹介いたします。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講演終了後に講師の先生に個別に質問をすることが可能です。
産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。
主催:産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF) 共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会(TSC)