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新規装置のご案内【8/1デビュー♪】

2017/07/21(金)

平成29年8月1日からの新規装置及びそれに伴う装置利用形態の変更についてお知らせいたします

※※ 新規装置

【NPF081】プラズマCVD装置(SiN)
【NPF082】ICP-RIE(化合物半導体用)
【NPF084】デジタルマイクロスコープ
【NPF085】物理特性測定装置(PPMS)
【NPF086】マニュアルウェハープローバー(2F)
【NPF087】ワイヤーボンダー(2F)
【NPF090】レーザー加工装置

※※ 装置名称変更

【NPF023】電子ビーム真空蒸着装置 (旧名称:真空蒸着装置)
【NPF024】抵抗加熱型真空蒸着装置 (旧名称:小型真空蒸着装置)
【NPF032】クロスセクションポリッシャ (旧名称:原子層堆積装置ミリング機能)

※※ 利用形態変更

【NPF019】多目的エッチング装置(ICP-RIE) 技術代行専用 → 機器利用可能

新しいICP-RIE装置導入に伴いまして既存のICP-RIE装置は『機器利用』装置として
ご利用可能となります。
機器利用ご希望のユーザ様は「トレーニング申請」のエントリーからお願いいたします。


以上、まだまだこれからも新規装置の追加予定がありますので、
準備ができ次第ご案内させていただきます。♪

NPF事務局

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